設備

KIT

系采用了本公司自主研發的RAS法(Radical Assisted Sputtering：
激化輔助濺鍍法)的小型候選機型，實現了在低温下以良好的再現性制造波長稳定的高品質光學薄膜，以及包括裝飾膜在内的功能性薄膜、氮化膜等。

日本真空龍(Shincron)為真空鍍膜生產設備之翹楚,其所生產之高精密離子輔助光學鍍膜系統MIC1350系列,可用於AR(抗反射膜),DBR(布拉格反射鏡)及ODR(全方向反射鏡)等製程.可應用於光學業,發光二極體,觸控面板及太陽能等產業上之產品生產。

PICOSUN™ 原子層沉積（ALD）系統專門針對研究、生產、生產研發和試生產進行優化。用途廣泛的反應器設計使2吋至18吋(50毫米至450毫米）的晶片、三維物體，以及多孔基片上均可進行沉積。反應器腔體採用抗腐蝕性工藝材料。輔助配件可以透過安裝各種反應前趨物、不同尺寸的反應器腔體和手動、自動化基板進樣裝置，以及臭氧、氮氣或電漿產生器等來進行設備升級。

iTS – LRW210本體搭載RS-232C、RS-485、Ethernet，透過通訊專用CPU雙處理器構成的SECS通訊對應，並內藏Ethernet中SECS通訊機能

PICOSUN™ 原子層沉積（ALD）系統專門針對研究、生產、生產研發和試生產進行優化。用途廣泛的反應器設計使2吋至18吋(50毫米至450毫米）的晶片、三維物體，以及多孔基片上均可進行沉積。反應器腔體採用抗腐蝕性工藝材料。輔助配件可以透過安裝各種反應前趨物、不同尺寸的反應器腔體和手動、自動化基板進樣裝置，以及臭氧、氮氣或電漿產生器等來進行設備升級。

PICOSUN™ 原子層沉積（ALD）系統專門針對研究、生產、生產研發和試生產進行優化。用途廣泛的反應器設計使2吋至18吋(50毫米至450毫米）的晶片、三維物體，以及多孔基片上均可進行沉積。反應器腔體採用抗腐蝕性工藝材料。輔助配件可以透過安裝各種反應前趨物、不同尺寸的反應器腔體和手動、自動化基板進樣裝置，以及臭氧、氮氣或電漿產生器等來進行設備升級。

PICOSUN™ 原子層沉積（ALD）系統專門針對研究、生產、生產研發和試生產進行優化。用途廣泛的反應器設計使2吋至18吋(50毫米至450毫米）的晶片、三維物體，以及多孔基片上均可進行沉積。反應器腔體採用抗腐蝕性工藝材料。輔助配件可以透過安裝各種反應前趨物、不同尺寸的反應器腔體和手動、自動化基板進樣裝置，以及臭氧、氮氣或電漿產生器等來進行設備升級。