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RAS-1100C 雙槽式濺射成膜裝置
系采用了本公司自主研發的RAS法(Radical Assisted Sputtering: 激化輔助濺鍍法)的小型候選機型,實現了在低温下以良好的再現性制造波長稳定的高品質光學薄膜,以及包括裝飾膜在内的功能性薄膜、氮化膜等。
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