Shincron
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RAS-1100C 雙槽式濺射成膜裝置RAS-1100C 雙槽式濺射成膜裝置
系采用了本公司自主研發的RAS法(Radical Assisted Sputtering:
激化輔助濺鍍法)的小型候選機型,實現了在低温下以良好的再現性制造波長稳定的高品質光學薄膜,以及包括裝飾膜在内的功能性薄膜、氮化膜等。 -
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MIC-1350-DSN-LMIC-1350-DSN-L
日本真空龍(Shincron)為真空鍍膜生產設備之翹楚,其所生產之高精密離子輔助光學鍍膜系統MIC1350系列,可用於AR(抗反射膜),DBR(布拉格反射鏡)及ODR(全方向反射鏡)等製程.可應用於光學業,發光二極體,觸控面板及太陽能等產業上之產品生產。