全部代理產品

KIT

系采用了本公司自主研發的RAS法(Radical Assisted Sputtering：
激化輔助濺鍍法)的小型候選機型，實現了在低温下以良好的再現性制造波長稳定的高品質光學薄膜，以及包括裝飾膜在内的功能性薄膜、氮化膜等。

日本真空龍(Shincron)為真空鍍膜生產設備之翹楚,其所生產之高精密離子輔助光學鍍膜系統MIC1350系列,可用於AR(抗反射膜),DBR(布拉格反射鏡)及ODR(全方向反射鏡)等製程.可應用於光學業,發光二極體,觸控面板及太陽能等產業上之產品生產。

本裝置為將雷射切割過貼附在鐵環上的晶片,由載物架中自動裝載到工作台上,在影像系統自動調整水平後,做劈裂的動作(X及Y方向),劈裂完成後再自動卸載到載物架裡的自動劈裂裝置。

1. 使用SUS高剛性載台，有效排除溫度變化以及震動等干擾，進行穩定校準。
2. 使用者可依照使用的光學設備、種類，依照情況調整進行最適校準。

1. 使用SUS高剛性載台，有效排除溫度變化以及震動等干擾，進行穩定校準。
2. 使用者可依照使用的光學設備、種類，依照情況調整進行最適校準。
3. 光【學】波導測量裝置，快速穩定校準帶狀波導測量

1. 一台可固定YAG雷射焊接的裝置，可最佳校準雷射二極管、光電二極管和光纖設備。
2. 使用KUGE特殊應用軟體CockPit（專利第3456524號）和自動頂峰檢索軟體的對接標準化系統，和應用軟體至各種各樣的LD/PD對應可能。

可最佳調整激光二極管和第一透鏡並通過YAG激光焊接固定的裝置。

PICOSUN™ 原子層沉積（ALD）系統專門針對研究、生產、生產研發和試生產進行優化。用途廣泛的反應器設計使2吋至18吋(50毫米至450毫米）的晶片、三維物體，以及多孔基片上均可進行沉積。反應器腔體採用抗腐蝕性工藝材料。輔助配件可以透過安裝各種反應前趨物、不同尺寸的反應器腔體和手動、自動化基板進樣裝置，以及臭氧、氮氣或電漿產生器等來進行設備升級。

採用飛秒雷射 (Femtosecond laser) 與最先進雷射切割技術產生極小的熱效應，大幅減少硬脆材料與微型光學元件的側壁應力與裂痕，可切割成為圓形、非圓形與矩形等形狀，切割面具高垂直度與極為細緻表面粗糙度, 雷射切割表現優勢顯著。

iTS – LRW210本體搭載RS-232C、RS-485、Ethernet，透過通訊專用CPU雙處理器構成的SECS通訊對應，並內藏Ethernet中SECS通訊機能

PICOSUN™ 原子層沉積（ALD）系統專門針對研究、生產、生產研發和試生產進行優化。用途廣泛的反應器設計使2吋至18吋(50毫米至450毫米）的晶片、三維物體，以及多孔基片上均可進行沉積。反應器腔體採用抗腐蝕性工藝材料。輔助配件可以透過安裝各種反應前趨物、不同尺寸的反應器腔體和手動、自動化基板進樣裝置，以及臭氧、氮氣或電漿產生器等來進行設備升級。