R-200 進階型電漿輔助原子層沉積系統

PICOSUN™ 原子層沉積（ALD）系統專門針對研究、生產、生產研發和試生產進行優化。用途廣泛的反應器設計使2吋至18吋(50毫米至450毫米）的晶片、三維物體，以及多孔基片上均可進行沉積。反應器腔體採用抗腐蝕性工藝材料。輔助配件可以透過安裝各種反應前趨物、不同尺寸的反應器腔體和手動、自動化基板進樣裝置，以及臭氧、氮氣或電漿產生器等來進行設備升級。