P-1000 18吋晶圓級批量式原子層沉積系統
PICOSUN™ P-1000 是一款頂級批量式 ALD 生產平台，專為 450mm (18吋) 超大尺寸晶圓及高產能量產需求量身打造。系統採用領先業界的反應器設計，具備卓越的抗腐蝕性與工藝穩定度，能在巨型晶片、複雜三維物體及高深寬比多孔基板上實現極致均勻的薄膜沉積。模組化配件支援電漿輔助、臭氧發生器與全自動化進樣系統，為先端半導體與新材料研發提供最強大的生產推力。
先端製程核心優勢
01
100% 薄膜階梯覆蓋率 在 18 吋超大面積與深窄結構中，確保每一分子層的完美包裹。
02
18吋晶圓級生產能力 支援最高達 450mm 規格，對應未來先端半導體生產線之大尺寸基板需求。
03
精密膜厚控制技術 原子級精準度（Å 級別），實現對薄膜生長厚度的絕對掌控。
04
完美的批量均勻性 針對大容量批量載具優化流場，維持極佳的片間（W2W）一致性。
05
高品質無孔隙薄膜 ALD 工藝特有的緻密性，確保薄膜在極薄厚度下依然具備頂級屏障性能。
06
高度可再現性製程 工業級穩定性設計，確保大批量、多批次生產中的數據再現與可靠性。
07
低溫製程適配能力 有效降低熱預算，保護熱敏感基材，同時維持高品質薄膜成長。
08
奈米分層與複合材料 支援複雜的奈米級多層膜（Nanolaminates）與混合材料沉積製程。